Carman Haas ten galvanómetro láser láser 2D de alta gama, galvanómetro de dixitalización láser 3D, galvanómetro de soldadura láser de alta potencia, galvanómetro de beleza e solución de limpeza láser. plásticos, cerámica e outras marcas. Tallado profundo, procesamento fino, procesamento especial de material.
A cabeza do escáner Galvanómetro de 2 eixes Carman Haas, incluíndo a alta velocidade (unha serie) e a serie estándar, están deseñadas para unha gama de aplicacións para a marca incluíndo marcación de precisión láser, corte láser, soldadura por láser, prototipado rápido, impresión 3D, ubicación de perforación, limpeza de láser, beleza médica e así on. É compacto, estable e rendible.
1. Apertura: 10 mm, 12 mm ；
2. Bo grao de linealidade, pequena deriva de alta resolución, posicionamento repetitivo preciso ；
3. As velocidades de procesamento máis altas da industria para maximizar o rendemento da produción ；
4. Modelos de alta precisión e alta estabilidade dispoñibles para aplicacións de dixitalización precisas ；
5. Ampla gama de opcións de alto rendemento e eficientes para aplicacións específicas;
6. Fácil de instalar.
| Modelo | ZB2D-10A | ZB2D-12A | ZB2D-10C | ZB2D-12C |
| Apertura (mm) | 10 | 12 | 10 | 12 |
| Ángulo típico de exploración | ± 0,35 rad | ± 0,35 rad | ± 0,35 rad | ± 0,35 rad |
| Non linealidade | <0,5 mrad | <0,5 mrad | <0,8 mrad | <2 mrad |
| Erro de seguimento | 0,15ms | 0,18ms | 0,2ms | <0,2ms |
| Tempo de resposta de paso | 0,3ms | <0,35ms | 0,4ms | <0,4ms |
| Repetirabiiity (rms) | <2 Urad | <2 Urad | <2 Urad | <2 Urad |
| Gaña deriva | <50 ppm/k | <50 ppm/k | <80 ppm/k | <80 ppm/k |
| Deriva cero | <30 Urad/K. | <30 Urad/K. | <30 Urad/K. | <30 Urad/K. |
| Deriva a longo prazo durante 8 horas （Despois de 30 minutos avisados） | <0,1 mrad | <0,1 mrad | <0,2 mrad | <0,2 mrad |
| Velocidade de marca | <2,5m/s | <2m/s | <2m/s | <2m/s |
| Velocidade de posicionamento | <15m/s | <10m/s | <10m/s | <10m/s |
| Requisitos de enerxía | ± 15v/3a | ± 15v/3a | ± 15v/3a | ± 15v/3a |
| Sinal dixital | XY2-100 | XY2-100 | XY2-100 | XY2-100 |
| Lonxitude de onda de reflexión | 1064nm | 1064nm | 1064nm | 1064nm |
| Temperatura de traballo | -15 ℃ a 55 ℃ | -15 ℃ a 55 ℃ | -15 ℃ a 55 ℃ | -15 ℃ a 55 ℃ |
| Temperatura do stock | -10 ℃ a 60 ℃ | -10 ℃ a 60 ℃ | -10 ℃ a 60 ℃ | -10 ℃ a 60 ℃ |
| Dimensións LWH (MM) | 114x96x94 | 116x99x97 | 114x96x94 | 116x99x97 |
Observacións:
(1) refírese á deriva da temperatura dentro das 8 horas despois de comezar media hora para quentarse;
(2) refírese á velocidade de marcaxe baixo a condición de pequenos caracteres (1 mm) para obter un efecto de marcación de alta calidade e non representa a velocidade máxima de marcación; Segundo diferentes contidos de marca e efectos de marcaxe, a velocidade máxima de marcación pode ser tan grande como a velocidade máxima de posicionamento.
(3) As bandas convencionais de lonxitude de onda, hai que personalizar outras bandas de lonxitude de onda.
