SLA (Stereolitografía) é un proceso de fabricación aditiva que funciona centrando un láser UV nun IVE de resina de fotopolímero. Coa axuda do software de fabricación ou de deseño asistido por ordenador (CAM/CAD), o láser UV úsase para deseñar un deseño preprogramado ou forma á superficie do IVE de fotopolímero. Os fotopolímeros son sensibles á luz ultravioleta, polo que a resina está solidificada fotoquímicamente e forma unha única capa do obxecto 3D desexado. Este proceso repítese para cada capa do deseño ata que o obxecto 3D estea completo.
Carmanhaas podería ofrecer ao cliente O sistema óptico inclúe principalmente escáner de galvanómetro rápido e lente de exploración F-theta, expansor de feixe, espello, etc.
Cabeza do escáner Galvo de 355nm
| Modelo | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| Cabeza de dixitalización fresca de auga/selada | Si | Si | Si |
| Apertura (mm) | 14 | 20 | 30 |
| Ángulo de exploración eficaz | ± 10 ° | ± 10 ° | ± 10 ° |
| Erro de seguimento | 0,19 ms | 0,28ms | 0,45ms |
| Tempo de resposta de paso (1% da escala completa) | ≤ 0,4 ms | ≤ 0,6 ms | ≤ 0,9 ms |
| Velocidade típica | |||
| Posicionamento / salto | <15 m/s | <12 m/s | <9 m/s |
| Dixitalización de liña/dixitalización de raster | <10 m/s | <7 m/s | <4 m/s |
| Dixitalización vectorial típica | <4 m/s | <3 m/s | <2 m/s |
| Boa calidade de escritura | 700 cps | 450 CPS | 260 CPS |
| Alta calidade de escritura | 550 CPS | 320 CPS | 180 CPS |
| Precisión | |||
| Linealidade | 99,9% | 99,9% | 99,9% |
| Resolución | ≤ 1 Urad | ≤ 1 Urad | ≤ 1 Urad |
| Repetibilidade | ≤ 2 Urad | ≤ 2 Urad | ≤ 2 Urad |
| Deriva de temperatura | |||
| Deriva compensada | ≤ 3 Urad/℃ | ≤ 3 Urad/℃ | ≤ 3 Urad/℃ |
| Qver 8hours Deriva de compensación a longo prazo （despois de 15 minutos avisado） | ≤ 30 Urad | ≤ 30 Urad | ≤ 30 Urad |
| Rango de temperatura de funcionamento | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ |
| Interface de sinal | Analog: ± 10V Digital: Protocolo XY2-100 | Analog: ± 10V Digital: Protocolo XY2-100 | Analog: ± 10V Digital: Protocolo XY2-100 |
| Requisito de enerxía de entrada (DC) | ± 15v@ 4a max rms | ± 15v@ 4a max rms | ± 15v@ 4a max rms |
355nmF-theta Lentees
| Descrición da parte | Licitude focal (mm) | Campo de exploración (mm) | Entrada máxima Alumno (mm) | Distancia de traballo (MM) | Montaxe Fío |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85x1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824.4 | M85x1 |
| SL-355-610-840- (15CA) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85x1 |
| SL-355-800-1090- (18CA) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85x1 |
Expander de feixe de 355 nm
| Descrición da parte | Expansión Relación | Entrada ca. (mm) | Saída CA (mm) | Vivenda Dia (mm) | Vivenda Lonxitude (mm) | Montaxe Fío |
| BE3-355-D30: 84,5-3X-A (M30*1-M43*0,5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33: 84,5-5X-A (M30*1-M43*0,5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33: 80.3-7X-A (M30*1-M43*0,5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80.3 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30: 90-8X-A (M30*1-M43*0,5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90,0 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30: 72-10X-A (M30*1-M43*0,5) | 10x | 10 | 33 | 46 | 72.0 | M30*1-M43*0,5 |
Espello de 355 nm
| Descrición da parte | Diámetro (mm) | Grosor (mm) | Revestimento |
| 355 espello | 30 | 3 | HR@355nm, 45 ° aoi |
| 355 espello | 20 | 5 | HR@355nm, 45 ° aoi |
| 355 espello | 30 | 5 | HR@355nm, 45 ° aoi |
