A SLA (estereolitografía) é un proceso de fabricación aditiva que funciona enfocando un láser UV nunha cuba de resina de fotopolímero. Coa axuda de software de fabricación asistida por ordenador ou deseño asistido por ordenador (CAM/CAD), o láser UV úsase para debuxar un deseño ou forma preprogramada na superficie da cuba de fotopolímero. Os fotopolímeros son sensibles á luz ultravioleta, polo que a resina solidifícase fotoquimicamente e forma unha soa capa do obxecto 3D desexado. Este proceso repítese para cada capa do deseño ata que o obxecto 3D estea completo.
CARMANHAAS podería ofrecer aos clientes o sistema óptico que inclúe principalmente un escáner galvanómetro rápido e unha lente de dixitalización F-THETA, un expansor de feixe, un espello, etc.
Cabezal de escáner Galvo de 355 nm
| Modelo | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| Cabezal de dixitalización selado/refrixerado por auga | si | si | si |
| Apertura (mm) | 14 | 20 | 30 |
| Ángulo de dixitalización efectivo | ±10° | ±10° | ±10° |
| Erro de seguimento | 0,19 ms | 0,28 ms | 0,45 ms |
| Tempo de resposta ao paso (1 % da escala completa) | ≤ 0,4 ms | ≤ 0,6 ms | ≤ 0,9 ms |
| Velocidade típica | |||
| Posicionamento / salto | < 15 m/s | < 12 m/s | < 9 m/s |
| Escaneado de liñas/escaneado rasterizado | < 10 m/s | < 7 m/s | < 4 m/s |
| Escaneado vectorial típico | < 4 m/s | < 3 m/s | < 2 m/s |
| Boa calidade de escritura | 700 cps | 450 cps | 260 cps |
| Alta calidade de escritura | 550 cps | 320 cps | 180 cps |
| Precisión | |||
| Linealidade | 99,9% | 99,9% | 99,9% |
| Resolución | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad |
| Repetibilidade | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad |
| Deriva de temperatura | |||
| Deriva de compensación | ≤ 3 uradios/℃ | ≤ 3 uradios/℃ | ≤ 3 uradios/℃ |
| Desviación de compensación a longo prazo de Qver 8 horas (despois de 15 minutos de aviso) | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad |
| Rango de temperatura de funcionamento | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ |
| Interface de sinal | Analóxico: ±10 V Dixital: protocolo XY2-100 | Analóxico: ±10 V Dixital: protocolo XY2-100 | Analóxico: ±10 V Dixital: protocolo XY2-100 |
| Requisito de alimentación de entrada (CC) | ±15 V a 4 A RMS máx. | ±15 V a 4 A RMS máx. | ±15 V a 4 A RMS máx. |
355 nmF-Theta Lentees
| Descrición da peza | Distancia focal (mm) | Campo de dixitalización (mm) | Entrada máxima Pupila (mm) | Distancia de traballo (mm) | Montaxe Fío |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85x1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824.4 | M85x1 |
| SL-355-610-840-(15CA) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85x1 |
| SL-355-800-1090-(18CA) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85x1 |
Expansor de feixe de 355 nm
| Descrición da peza | Expansión Proporción | Entrada CA (mm) | Saída CA (mm) | Vivenda Diámetro (mm) | Vivenda Lonxitude (mm) | Montaxe Fío |
| BE3-355-D30:84,5-3x-A(M30*1-M43*0,5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33:84,5-5x-A(M30*1-M43*0,5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33:80,3-7x-A(M30*1-M43*0,5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80,3 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30:90-8x-A(M30*1-M43*0,5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90,0 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30:72-10x-A(M30*1-M43*0,5) | 10X | 10 | 33 | 46 | 72,0 | M30*1-M43*0,5 |
Espello de 355 nm
| Descrición da peza | Diámetro (mm) | Espesor (mm) | Revestimento |
| 355 Espello | 30 | 3 | HR a 355 nm, 45° de área de impacto |
| 355 Espello | 20 | 5 | HR a 355 nm, 45° de área de impacto |
| 355 Espello | 30 | 5 | HR a 355 nm, 45° de área de impacto |
